Ekstremalūs puslaidininkinės litografijos reikalavimai: kodėl svarbus stiklo substrato pasirinkimas
Puslaidininkių gamybos pasaulyje, kur tikslumas matuojamas atominiais matmenimis, kiekvienas komponentas turi veikti visiškai patikimai. Tarp svarbiausių elementų yra stiklo substratai, naudojami litografijos įrangoje-veidrodžiuose, scenose, optiniuose komponentuose, kurie turi išlaikyti nepriekaištingą išlygiavimą net ir pačiomis ekstremaliausiomis darbo sąlygomis.
Nanometrinio{0}}mastelio litografijos atveju stiklo pagrindo pasirinkimas tiesiogiai veikia derlingumą, tikslumą ir įrangos naudojimo trukmę. Neteisingas pasirinkimas gali sukelti nepriimtinus modelio iškraipymus, šiluminio dreifo klaidas ir brangiai kainuojančius įrangos gedimus, dėl kurių gamyba sustabdoma. Štai kodėl pirmaujantys puslaidininkių gamintojai vis dažniau kreipiasi į pažangias stiklo medžiagas, kurios gali žengti koja kojon su nenumaldomu Moore'o įstatymo žingsniu.
Šiame vadove nagrinėjami techniniai lydyto silicio dioksido ir borosilikatinio stiklo substratų skirtumai ir pateikiamos inžinerinės įžvalgos, padėsiančios tinkamai pasirinkti konkrečius litografijos taikymo reikalavimus.
Pagrindinių medžiagų savybių supratimas
Tiek lydytas silicio dioksidas, tiek borosilikatinis stiklas pasižymi unikaliomis savybėmis, dėl kurių jie tinka puslaidininkių litografijos reikmėms, tačiau esminiai jų skirtumai sukuria skirtingas eksploatacines charakteristikas, į kurias reikia atidžiai atsižvelgti kuriant įrangą.
Lydytas silicio dioksidas yra ne{0}}kristalinė silicio dioksido (SiO₂) forma, gaunama lydant didelio -grynumo silicio dioksido smėlį aukštesnėje nei 1800 laipsnių temperatūroje. Šis gamybos procesas sukuria išskirtinio terminio stabilumo, optinio vienodumo ir cheminio grynumo medžiagą. Lydytas silicio dioksidas dažnai vadinamas „sintetiniu kvarciniu stiklu“, kad būtų atskirtas nuo natūraliai susidarančio kristalinio kvarco.
Priešingai, borosilikatinis stiklas yra natrio-kalkių stiklo kompozicija, modifikuota boro oksido priedais, kurie žymiai sumažina šiluminį plėtimąsi ir pagerina cheminį atsparumą. Pridėjus boro, sukuriama unikali stiklo struktūra, kurios atominis mobilumas yra mažesnis, o tai suteikia geresnes mechanines savybes, palyginti su įprastomis natrio{2} kalkių stiklinėmis, tačiau išliks ekonomiškesnis{3}} nei lydytas silicio dioksidas.
Šiluminis plėtimasis: raktas į litografijos tikslumą
Svarbiausias litografinio stiklo pagrindo veikimo parametras yra terminio plėtimosi koeficientas (CTE), nes net ir mažiausias temperatūros pokytis gali sukelti pakankamai didelių matmenų pakitimų, kad sugadintų nanometrų{0} mastelio modelius.
Lydyto silicio dioksido šiluminis plėtimasis yra labai mažas, paprastai apie 0,55 × 10⁻⁶/laipsnį, kai temperatūros diapazonas yra 20–300 laipsnių. Šis nepaprastas šiluminis stabilumas atsiranda dėl amorfinės medžiagos struktūros ir fazių perėjimų nebuvimo tinkamoje temperatūros diapazone. Toks stabilumo lygis reiškia, kad 1 metro ilgio lydyto silicio dioksido komponento ilgis pasikeistų tik apie 0,55 mikrometro, kai temperatūra pasikeistų 1 laipsniu.
Borosilikatinio stiklo šiluminio plėtimosi koeficientas yra maždaug 3,25 × 10⁻⁶/laipsnis, maždaug šešis kartus didesnis nei lydytas silicio dioksidas, bet vis tiek žymiai geresnis už įprastą natrio -kalkių stiklą, kurio šiluminio plėtimosi koeficientas yra apie 9 × 10⁻⁶/laipsnį. Nors šis terminio stabilumo lygis yra priimtinas daugeliui optinių programų, jis rodo didelį puslaidininkių litografijos veikimo spragą, kur net nanometro{6}}lygio iškraipymai gali sukelti kritinių derinimo klaidų.
Šis šiluminio plėtimosi skirtumas tiesiogiai reiškia litografijos įrangos našumą. EUV (Extreme Ultraviolet) litografijos sistemose, veikiančiose 13,5-nm bangos ilgiais, reikiamas padėties tikslumas matuojamas pikometrais-tūkstantosiomis nanometrų dalimis. Lydyto silicio dioksido terminis stabilumas yra būtinas norint išlaikyti šį tikslumo lygį, o borosilikatiniam stiklui greičiausiai reikės nuolatinės aktyvios temperatūros kontrolės, kad būtų išlaikytas priimtinas tikslumas.
Optinis aiškumas ir vienodumas: labai svarbūs spindulio stabilumui
Litografijos sistemos priklauso nuo tikslaus sudėtingų optinių takų valdymo, o bet kokie stiklo pagrindo trūkumai ar kitimai gali sukelti pluošto iškraipymą, bangos fronto klaidas ir sumažėjusią skiriamąją gebą.
Lydytas silicio dioksidas pasižymi išskirtiniu optiniu aiškumu ir vienodumu, itin žemu optinės sugerties ir sklaidos lygiu. Gamybos procesas leidžia tiksliai kontroliuoti priemaišų lygį, todėl perdavimo greitis viršija 99,8 % per centimetrą matomų ir ultravioletinių bangų ilgių. Toks optinio grynumo lygis užtikrina, kad lazerio spinduliai išsaugotų savo charakteristikas ilguose sklidimo keliuose, o tai labai svarbu norint išlaikyti pažangioms litografijos technikoms reikalingą darną.
Borosilikatinis stiklas užtikrina geras optines savybes daugeliu atvejų, o perdavimo sparta yra apie 92-95 % per centimetrą matomame spektre. Tačiau dėl boro ir kitų modifikatorių atsiranda nedidelė spalva ir padidėja sklaida, palyginti su lydytu silicio dioksidu, todėl jis yra mažiau tinkamas naudoti aukštos-ultravioletinės ir gilios ultravioletinės spinduliuotės atveju, įprastai naudojant pažangius litografijos procesus.
Kitas svarbus parametras yra lūžio rodiklio homogeniškumas. Lydytas silicio dioksidas gali būti gaminamas su ±1 × 10⁻⁶ lūžio rodiklio svyravimais tarp didelių komponentų, būtinų vienodoms bangos fronto savybėms išlaikyti. Borosilikatinis stiklas paprastai pasižymi maždaug ±5 × 10⁻⁵ lūžio rodiklio svyravimais, o tai gali sukelti bangos fronto iškraipymus, kurie pablogina litografijos skiriamąją gebą.
EUV litografijos sistemoms, kuriose naudojama atspindinti optika, o ne pralaidi optika, paviršiaus kokybės ir grynumo reikalavimai yra dar griežtesni. Lydyto silicio dioksido pagrindus galima poliruoti iki itin lygaus paviršiaus, kurio šiurkštumo reikšmės mažesnės nei 0,1 nm (vidutinė kvadratinė vertė) – tai užtikrina minimalų subtilių EUV fotonų sklaidą. Borosilikatinis stiklas taip pat gali pasiekti aukštą paviršiaus apdailą, tačiau dėl mažesnio kietumo šią apdailą išlaikyti yra sudėtingiau didelės-vibracijos aplinkoje.
Mechaninės savybės: balansavimo stiprumas ir stabilumas
Nors šiluminės ir optinės savybės yra svarbiausios, mechaninės savybės taip pat vaidina svarbų vaidmenį projektuojant litografijos įrangą, ypač didelėms scenoms ir atraminėms konstrukcijoms, kurios turi išlaikyti stabilumą dinamiškomis eksploatavimo sąlygomis.
Lydytas silicio dioksidas pasižymi dideliu gniuždymo stipriu, paprastai apie 1 100 MPa, tačiau santykinai mažą tempimo stiprumą – apie 70{5}}100 MPa, todėl jį gali pažeisti smūgiai arba greiti temperatūros pokyčiai. Tačiau jo išskirtinis maždaug 72 GPa Youngo modulis užtikrina puikų standumo- ir svorio santykį, leidžiantį suprojektuoti standžias konstrukcijas, kurios gali išlaikyti tikslią išlygiavimą ir sumažinti masę, kad būtų galima greitai nustatyti padėtį.
Borosilikatinis stiklas pasižymi labiau subalansuotu mechaninių savybių rinkiniu, kurio tempiamasis stipris yra apie 70–100 MPa, o atsparumas gniuždymui – apie 600 MPa, panašus į lydyto silicio dioksido įtempimą, bet šiek tiek mažesnis suspaudimas. Jo mažesnis Youngo modulis (maždaug 64 GPa) reiškia, kad jis yra šiek tiek kietesnis nei lydytasis silicio dioksidas, todėl apkrovos metu gali padidėti deformacijos, dėl kurių gali prireikti kompensuoti tikslios padėties nustatymo sistemose.
Svarbus mechaninis aspektas, susijęs su puslaidininkių taikymu, yra atsparumas greitiems temperatūros pokyčiams arba terminis šokas. Mažas lydyto silicio dioksido šiluminio plėtimosi koeficientas suteikia jam puikų atsparumą šiluminiam smūgiui, galintį atlaikyti iki 1000 laipsnių temperatūros skirtumus be įtrūkimų. Borosilikatinis stiklas taip pat pasižymi geru atsparumu šiluminiam smūgiui, palyginti su įprastais stiklais, tačiau jo didesnis šiluminio plėtimosi koeficientas riboja jo gebėjimą atlaikyti tokius pat ekstremalių temperatūrų skirtumus kaip lydytas silicio dioksidas, ypač plonose dalyse.
Optinėms stadijoms, kurioms reikalingas greitas judėjimas išlaikant nanometro{0}}skalės padėties nustatymo tikslumą, mažos lydyto silicio dioksido masės ir didelio standumo derinys suteikia didelį pranašumą. Mažesnė masė sumažina inercines jėgas greitėjimo ir lėtėjimo metu, o didelis standumas sumažina rezonansines vibracijas, kurios gali pabloginti padėties nustatymo tikslumą.
Cheminis grynumas ir atsparumas: itin{0}}švarioje aplinkoje
Puslaidininkių gamyboje reikia dirbti itin{0}}švarioje aplinkoje, kur net mažiausias dalelių užterštumas gali sugadinti brangias plokšteles. Stiklo substratai turi būti atsparūs cheminiam valymo priemonių poveikiui ir neturi būti išmetamų dujų, galinčių užteršti vakuuminę aplinką.
Lydytas silicio dioksidas pasižymi išskirtiniu cheminiu grynumu, o priemaišų lygis paprastai matuojamas dalimis milijardui. Šis didelis grynumas užtikrina minimalų dujų išsiskyrimą vakuuminėje aplinkoje, o tai labai svarbu palaikant itin -aukšto vakuumo sąlygas, reikalingas EUV litografijai. Lydytas silicio dioksidas yra labai atsparus daugumos rūgščių, įskaitant vandenilio fluorido rūgštį (HF), atakai, kai jis tinkamai pasyvuotas, nors jį galima išgraviruoti koncentruotais HF tirpalais, skirtais tiksliam mikroapdirbimui.
Borosilikatinis stiklas užtikrina gerą cheminį atsparumą daugeliui įprastų rūgščių ir bazių, tačiau dėl boro kiekio jį gali paveikti stiprūs šarminiai tirpalai ir vandenilio fluorido rūgštis. Tai gali kelti susirūpinimą puslaidininkių gamyboje, kur dažni agresyvūs valymo procesai. Borosilikatiniame stikle taip pat yra nedidelis kiekis šarminių metalų, kurie gali išsiskirti esant aukštai -temperatūrai arba vakuumui, nors šiuolaikinės gamybos technologijos šią riziką gerokai sumažino, palyginti su ankstesnėmis formulėmis.
Lydyto silicio dioksido paviršiaus chemija gali būti tiksliai kontroliuojama įvairiais paviršiaus apdorojimo procesais, leidžiančiais sukurti hidrofilinius arba hidrofobinius paviršius, kurių reikia konkrečioms reikmėms. Šis paviršiaus valdymo lygis ypač svarbus optiniams komponentams, kurie turi palaikyti švarą aplinkoje, kurioje yra daug kietųjų dalelių, kur paviršiaus sąveika gali labai paveikti veikimą.
Gamybos aspektai: dideli komponentai ir tikslus apdirbimas
Didėjant litografijos sistemų dydžiui, kad būtų galima pritaikyti didesnes plokšteles ir sudėtingesnius optinius traukinius, galimybė gaminti didelius, labai{0}}tikslius stiklo komponentus tampa vis svarbesnė.
Lydytas silicio dioksidas gali būti gaminamas labai didelių matmenų, o pavieniai gabalai gali būti iki kelių metrų ilgio, tačiau kaina žymiai padidėja didėjant dydžiui. Gaminant didelius lydyto silicio dioksido komponentus reikia specializuotų įrenginių ir procesų, kad būtų užtikrintos vienodos viso tūrio savybės. Lydytas silicio dioksidas gali būti tiksliai apdirbtas ir poliruotas iki itin griežtų leistinų nuokrypių, matmenų tikslumas geresnis nei ±1 μm, o paviršiaus šiurkštumas mažesnis nei 0,1 nm RMS, pasiekiamas dideliuose paviršiaus plotuose.
Borosilikatinį stiklą paprastai lengviau ir pigiau gaminti dideliais dydžiais, palyginti su lydytu silicio dioksidu, tačiau jis taip pat kelia iššūkių, susijusių su vienodų didelių komponentų savybių išlaikymu. Borosilikatas gali būti apdirbamas naudojant panašius metodus kaip lydytas silicio dioksidas, tačiau jo didesnis šiluminio plėtimosi koeficientas reikalauja atidesnės temperatūros kontrolės apdirbimo procesų metu, kad nesusidarytų liekamųjų įtempių, dėl kurių ilgainiui gali atsirasti deformacijų arba savaiminių įtrūkimų.
Galimybė kurti sudėtingas formas taip pat skiriasi priklausomai nuo medžiagų. Lydytas silicio dioksidas gali būti formuojamas įvairiais būdais, įskaitant liejimą, formavimą ir apdirbimą, tačiau dėl aukštos darbinės temperatūros kai kurie procesai tampa sudėtingesni. Borosilikatinio stiklo minkštėjimo taškas yra žemesnis, todėl jį lengviau formuoti naudojant tradicinius stiklo -formavimo metodus, nors litografijos-klasės komponentams, kuriems reikia ypač didelių leistinų nuokrypių, vis dar reikalingas tikslus apdirbimas.
Kitas gamybos aspektas yra kaina. Lydytas silicio dioksidas gali būti žymiai brangesnis nei borosilikatinis stiklas, kartais kainuoja nuo penkių iki dešimties kartų brangiau, priklausomai nuo dydžio ir rūšies. Šis sąnaudų skirtumas turi būti kruopščiai įvertintas atsižvelgiant į konkrečių programų veikimo reikalavimus, nes gali būti sunku pateisinti papildomas lydyto silicio dioksido sąnaudas, susijusias su ne-kritiniais komponentais, kuriuose borosilikatas gali užtikrinti priimtiną našumą.
Paraiškos-konkrečios atrankos gairės
Pasirinkimas tarp lydyto silicio dioksido ir borosilikatinio stiklo priklauso nuo konkrečių litografijos taikymo reikalavimų, o skirtingiems tos pačios sistemos komponentams gali būti naudingos skirtingos medžiagos.
Pirminėms veidrodžių sistemoms EUV litografijoje dažniausiai pasirenkamas lydytas silicio dioksidas, nes pasižymi puikiu šiluminiu stabilumu, optiniu vienodumu ir gebėjimu išlaikyti itin lygų paviršiaus apdailą, reikalingą EUV šviesos atspindžiui. Išskirtinis šiluminis stabilumas užtikrina, kad veidrodis išlaikys tikslią formą net ir tada, kai jį intensyviai kaitina EUV lazerio impulsai.
Optinėms pakopoms ir atraminėms konstrukcijoms, kuriose standumas ir maža masė yra kritinės reikšmės, tačiau absoliutus terminis stabilumas gali būti ne toks svarbus, borosilikatinis stiklas gali būti ekonomiškas{0}}sprendimas, kuris vis dar turi didelių pranašumų, palyginti su įprastomis medžiagomis. Mažesnė borosilikato kaina leidžia sukurti tvirtesnes atramines konstrukcijas, tuo pačiu užtikrinant geresnį terminį stabilumą nei alternatyvių medžiagų, tokių kaip aliuminis ar plienas.
Panardinamosios litografijos sistemose, kuriose tarp objektyvo ir plokštelės naudojami skysčiai, cheminis atsparumas tampa pagrindiniu aspektu. Dėl išskirtinio lydyto silicio dioksido atsparumo vandeniniams tirpalams ir cheminėms valymo priemonėms jis yra tinkamiausia medžiaga svarbiems optiniams komponentams, kurie liečiasi su panardinamaisiais skysčiais ir valymo priemonėmis, o borosilikatas gali būti tinkamas mažiau svarbiems komponentams, kuriems nereikia tokio pat cheminio atsparumo.
Metrologijos komponentams, kuriems reikalingas itin{0}}tikslus matmenų stabilumas, pvz., lazerinių interferometrų atskaitos veidrodžiai, lydytas silicio dioksidas paprastai yra aiškus pasirinkimas dėl neprilygstamo terminio stabilumo ir mechaninių savybių. Šie komponentai turi išlaikyti matmenų stabilumą sub-nanometro lygyje, o tik lydytas silicio dioksidas gali užtikrinti reikiamą veikimą be nuolatinės aktyvios temperatūros kontrolės.
Tačiau ne tokiais kritiniais atvejais, kai temperatūros svyravimai kontroliuojami arba kompensuojami kitais būdais, borosilikatinis stiklas gali žymiai sutaupyti sąnaudų, tačiau vis tiek pasižymi geresniu našumu nei tradicinės medžiagos. Tai gali būti mažesnio-tikslumo pakopos, optinių komponentų laikikliai ir kiti konstrukciniai elementai, kur absoliutus šiluminis stabilumas nėra pagrindinė našumo metrika.
Ateities tendencijos: besikeičiantys medžiagų reikalavimai
Kadangi puslaidininkių technologija ir toliau tobulėja prie mažesnių elementų dydžių ir didesnio plokštelių skersmens, reikalavimai stiklo pagrindams taps dar griežtesni. EUV litografijos sistemoms, veikiančioms 5 nm ir žemiau, reikės medžiagų, turinčių dar geresnį terminį stabilumą, optinį vienodumą ir paviršiaus kokybę nei šiuo metu.
Vykdomi moksliniai tyrimai, siekiant sukurti pažangias lydyto silicio dioksido kompozicijas, turinčias dar mažesnius šiluminio plėtimosi koeficientus ir pagerintą atsparumą radiacinei žalai dėl EUV poveikio. Šios medžiagos turės išlaikyti savo savybes esant intensyviam spinduliuotės srautui, kuris laikui bėgant gali pakeisti stiklo struktūrą ir pabloginti veikimą.
Taip pat kuriami pažangūs gamybos metodai, skirti gaminti lydyto silicio dioksido komponentus su dar griežtesniais nuokrypiais ir mažesniu paviršiaus šiurkštumu. Tokie procesai kaip jonų pluošto formavimas gali pasiekti paviršiaus apdailą, kai šiurkštumo vertės yra mažesnės nei 0,01 nm RMS, o tai būtina norint išlaikyti reikiamą atspindį naujos-kartos EUV veidrodžiuose, kurie turi veikti vis-mažesniais bangos ilgiais.
Tuo pačiu metu borosilikatinio stiklo gamintojai stengiasi pagerinti medžiagos eksploatacines charakteristikas, išsaugodami jos sąnaudų pranašumą. Patobulintos borosilikatinės kompozicijos su mažesniu šiluminio plėtimosi koeficientu ir pagerintu cheminiu atsparumu yra kuriamos tais atvejais, kai lydyto silicio dioksido savybės gali būti nebūtinos, tačiau norima geresnių nei įprastinio borosilikato.
Hibridinės medžiagos, kuriose derinamos geriausios lydyto silicio dioksido ir borosilikatinio stiklo savybės, taip pat atsiranda kaip galimi sprendimai konkrečioms reikmėms. Šios medžiagos gali turėti lydyto silicio dioksido dangą ant borosilikatinio pagrindo, kad būtų užtikrintas aukšto našumo{1}}paviršius, išlaikant mažesnę kainą ir tvirtesnes mechanines borosilikato savybes masinei struktūrai.
Bendrų nuosavybės išlaidų analizė
Vertinant medžiagų pasirinkimą, svarbu atsižvelgti ne tik į pradines komponentų išlaidas, bet ir į visas nuosavybės išlaidas per litografijos įrangos eksploatavimo laiką.
Nors lydyto silicio dioksido komponentai turi didesnę pradinę kainą, jų puikus našumas ir ilgaamžiškumas gali padėti sutaupyti daug ilgalaikių-priežiūrų, nes sumažėja priežiūros reikalavimai, pailgėja įrangos veikimo laikas ir padidėja išeiga. Puslaidininkių gamyboje, kur prastovos gali kainuoti tūkstančius dolerių per minutę, papildomos lydyto silicio dioksido sąnaudos gali būti greitai susigrąžintos pagerinus įrangos patikimumą.
Borosilikatinis stiklas siūlo mažesnes pradines investicijas, tačiau gali prireikti dažniau kalibruoti ir prižiūrėti, kad būtų kompensuotas didesnis jo šiluminio plėtimosi koeficientas ir galimybė laikui bėgant padidinti matmenų poslinkį. Kai kuriais atvejais dėl sumažėjusio borosilikato veikimo, palyginti su lydytu silicio dioksidu, gali padidėti plokštelių atmetimo greitis arba sumažėti įrangos našumas, o tai gali viršyti pradines sąnaudas.
Priimant sprendimą taip pat reikia atsižvelgti į specifinę gamybos aplinką ir techninės priežiūros galimybes. Įrenginiai su tiksliu temperatūros valdymu ir pažangiomis priežiūros galimybėmis gali pasiekti priimtiną našumą naudojant borosilikatinį stiklą, o įrenginiams, kuriems taikoma ne tokia griežta aplinkos kontrolė arba riboti priežiūros ištekliai, greičiausiai būtų daugiau naudos iš didesnio stabilumo ir mažesnių priežiūros reikalavimų lydytam silicio dioksidui.
Išvada: tinkamos medžiagos pasirinkimas
Pasirinkimas tarp lydyto silicio dioksido ir borosilikatinio stiklo puslaidininkių litografijos reikmėms priklauso nuo kruopštaus veikimo reikalavimų, eksploatavimo sąlygų ir sąnaudų subalansavimo. Lydytas silicio dioksidas užtikrina neprilygstamą šiluminį stabilumą, optinį vienodumą ir paviršiaus kokybę, kurie yra būtini svarbiausiems komponentams pažangiose litografijos sistemose, ypač EUV litografijoje, kur našumo reikalavimai yra dideli.
Borosilikatinis stiklas yra ekonomiškai{0}}efektyvi alternatyva, kuri gali užtikrinti priimtiną našumą mažiau svarbiems komponentams arba programoms, kai eksploatavimo sąlygos yra kruopščiai kontroliuojamos arba kompensuojamos. Dėl mažesnės kainos jis yra patrauklus pasirinkimas didelės-apimties programoms, kai lydyto silicio dioksido našumo pranašumai gali nepateisinti papildomų išlaidų.
Galiausiai, geriausias medžiagos pasirinkimas priklausys nuo konkrečių jūsų taikymo poreikių, nes daugelis litografijos sistemų apima lydyto silicio dioksido ir borosilikato komponentus, optimizuotus jų konkrečiam vaidmeniui. Puslaidininkių technologijai toliau tobulėjant, pažangių stiklo medžiagų vaidmuo įgalinant naujos kartos litografijos sistemas taps dar svarbesnis, todėl kruopštus medžiagų pasirinkimas bus esminis sėkmingo įrangos projektavimo aspektas.
Neprilygstamos grupės ekspertų patarimai
„Unparalleled Group“ specializuojasi pažangių stiklo medžiagų, skirtų puslaidininkių gamybai, gamyboje. Mūsų medžiagų mokslininkų ir taikomųjų programų inžinierių komanda gali padėti susidoroti su sudėtingais lydyto silicio dioksido ir borosilikatinio stiklo kompromisais ir sukurti pritaikytus sprendimus, atitinkančius konkrečius litografijos našumo reikalavimus.
Nesvarbu, ar jums reikia itin -tikslių lydyto silicio dioksido veidrodžių EUV litografijos sistemoms, ekonomiškų- borosilikatinių atraminių konstrukcijų plokštelių apdorojimo įrangai ar tinkintų stiklo komponentų su paviršiaus apdorojimu ir dangomis, pritaikytomis pagal jūsų paskirtį, mes turime patirties, kad galėtume pateikti sprendimus, peržengiančius puslaidininkių gamybos technologijos ribas.
Susisiekite su mumis šiandien ir sužinokite, kaip galime padėti optimizuoti stiklo pagrindo pasirinkimą ir įveikti sudėtingiausius litografijos taikymo reikalavimus.
Apie Unparalleled Group: specializuojamės kurdami pažangius medžiagų sprendimus puslaidininkių gamybai ir kitoms aukštųjų{0}technologijų pramonės šakoms. Mūsų patirtis lydyto silicio dioksido ir borosilikatinio stiklo apdirbimo srityje padeda įrangos gamintojams pasiekti išskirtinį našumą ypač tiksliai naudojant.